廢氣處理設(shè)備顆粒物別離機理的別離條件剖析

 

廢氣處理設(shè)備工作過程中，含塵氣體進入別離區(qū)，在某一種或幾種力的作用下，粉塵顆粒偏離氣流，經(jīng)過足夠的時間，移到別離界面上，就附著在上面，并不斷除去，以便為新的顆粒繼續(xù)附著在上面創(chuàng)造條件。由此可見，要從氣體中將粉塵顆粒別離出來，必須具備一些基本的條件，下面跟小編一起來詳細了解一下。

有別離界面可以讓顆粒附著在上面，如器壁、固體表面、粉塵***顆粒表面、織物與纖維表面、液膜或液滴等。

有使粉塵顆粒運動軌跡和氣體流線不同的作用力，常見的有：重力、離心力、慣性力、擴散、靜電力、直接攔截等，此外還有熱聚力、聲波和光壓等。有足夠的時間使顆粒移到別離界面上，這就要求別離設(shè)備有一定的空間，并要控制氣體流速等。能使已附在界面上的顆粒不斷被除去，而不會重新返混入氣體內(nèi)，這就是清灰和排灰過程，清灰有在線式和離線式兩種。